Was ist High-NA-EUV?
EUV-Lithografie der nächsten Generation, die die numerische Apertur der Projektionsoptik von 0,33 auf 0,55 erhöht, um die Auflösung zu verbessern.
Japanische Bezeichnung: High-NA EUV
Fachgebiet: Lithografie
Vergleiche mit diesem Begriff
Verwandte Begriffe
ArF-Excimerlaser Bodenseitige Antireflexschicht (BARC) Chemisch verstärkter Resist EUV-Lithografie Fotolack Immersionslithografie Linienkantenrauheit (LER) Mehrfachstrukturierung (Multiple Patterning) Nanoimprint-Lithografie Numerische Apertur (NA)