Was ist ICP (induktiv gekoppeltes Plasma)?

Verfahren, das mit HF-Strom in einer Spule ein hochdichtes Plasma erzeugt. Plasmadichte und Energie der auf den Wafer treffenden Ionen lassen sich so leicht unabhängig steuern.

Japanische Bezeichnung: ICP(誘導結合プラズマ)

Fachgebiet: Ätzen