ALD란?
えーえるでぃー
原子層堆積。前駆体ガスの自己制限的な表面反応を繰り返し、原子層単位で膜厚を制御する成膜法。
일본어 명칭: ALD
분야: 박막 증착(CVD와 PVD)
えーえるでぃー
原子層堆積。前駆体ガスの自己制限的な表面反応を繰り返し、原子層単位で膜厚を制御する成膜法。
일본어 명칭: ALD
분야: 박막 증착(CVD와 PVD)
領域選択成膜 反応性スパッタリング 電解めっき 真空蒸着 静電チャック CVD HDP-CVD(高密度プラズマCVD) LPCVD(減圧CVD) PECVD(プラズマCVD) TEOS