製程材料(氣體與藥液)

半導體廠中用量最大的氣體之一,並作為吹驅(purge)或環境氣體經由管線供應的是下列何者?

  1. A磷化氫
  2. B氮(N2)
  3. C三氟化氮(NF3)
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正確答案:B. 氮(N2)

氮氣惰性且價格低廉,因此大量用於設備與管線的吹驅、FOUP或設備內環境的置換、真空幫浦的保護等。大型工廠會在廠區內或鄰近處設置空氣分離裝置,並以管線供應。由於用量大,若洩漏到狹窄的場所,氧濃度會降到18%以下,有缺氧症的危險。磷化氫或NF3是僅用於特定製程的特殊材料氣體。

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