포토리소그래피

포지티브형 포토레지스트에 대한 설명으로 올바른 것은?

  1. A노광한 부분이 현상 후에 남는다
  2. B노광한 부분이 현상에서 녹아 제거된다
  3. C노광 여부와 관계없이 현상에서 전부 녹는다
정답과 해설 보기

정답: B. 노광한 부분이 현상에서 녹아 제거된다

포지티브형 레지스트는 노광된 부분이 현상액에 잘 녹게 되어 현상에서 제거되므로, 마스크로 빛을 가린 부분의 패턴이 남습니다. i선용 노볼락 수지계와 KrF·ArF용 화학 증폭형이 대표적이며, 알칼리성 현상액(TMAH 수용액)으로 현상합니다. 해상성이 뛰어나 현재 주류입니다. 노광한 부분이 남는 것은 네거티브형이며, 사진의 네거티브·포지티브와 같은 개념입니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

포토리소그래피의 다른 문제

  1. ArF 액침 노광에 대한 설명으로 올바른 것은?
  2. 더블 패터닝(멀티 패터닝)에 대한 설명으로 올바른 것은?
  3. 노광 장비의 개구수(NA)를 크게 하면 초점 심도(DOF)는 일반적으로 어떻게 되는가?
  4. OPC(광 근접 효과 보정)에 대한 설명으로 올바른 것은?
  5. 위상 시프트 마스크의 목적으로 올바른 것은?

이 분야의 비교