先進電晶體(FinFET與GAA)

將電晶體的層依序堆疊在晶圓上製作、而非靠貼合晶片的三維整合方式是哪一個?

  1. A2.5D 封裝
  2. B單晶 3D 整合(循序 3D 整合)
  3. CSiP
查看答案與解析

正確答案:B. 單晶 3D 整合(循序 3D 整合)

在單晶 3D 整合中,製作完第一層電晶體後,在其上形成新的半導體層或將其薄薄貼合,再製作第二層電晶體。層間可以用導孔(via)的大小(數十 nm)連接,比以 TSV 堆疊晶片的連接密度高出一萬倍以上。不過,為了避免製作上層時的熱損傷下層或配線,需要約 500 ℃ 以下的低溫製程。CFET 也屬於這種方式。

練習這個領域 前往領域頁面

先進電晶體(FinFET與GAA)的其他題目

  1. 首次將 FinFET(Intel 稱之為 Tri-Gate)用於量產邏輯產品的企業與世代之組合,下列何者正確?
  2. 宣布全球首家將 GAA(奈米片)型電晶體用於量產的企業與世代之組合,下列何者正確?
  3. 下列關於電晶體微縮的主要目的,何者正確?
  4. 奈米片型 GAA 電晶體中的「奈米片」所指為何,下列何者正確?
  5. 「High-k 閘極絕緣膜」中的 k 表示什麼?

這個領域的比較