식각

산소 플라즈마 등을 사용해 포토레지스트를 재로 만들어 제거하는 공정을 무엇이라고 부르는가?

  1. A애싱
  2. B어닐링
  3. C다이싱
정답과 해설 보기

정답: A. 애싱

애싱은 산소 플라즈마 등으로 레지스트의 유기물을 산화시켜 CO2나 H2O로 제거하는 공정으로, 재(ash)로 만든다는 의미에서 이렇게 불립니다. 식각이나 이온 주입의 마스크로 쓰고 난 레지스트를 제거하기 위해 수행하며, 그 후 약액 세정으로 잔사를 제거합니다. 손상을 피하기 위해 라디칼만 쬐는 방식이 많고, Low-k막 위에서는 산소 대신 수소계 플라즈마도 사용합니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

식각의 다른 문제

  1. 원자층 식각(ALE)의 특징으로 올바른 것은?
  2. 건식 식각에서 이방성이 얻어지는 원리의 하나로 올바른 것은?
  3. 실리콘 질화막의 습식 식각에 일반적으로 사용되는 약액은?
  4. 플라즈마 식각 중에 긴 배선 등 안테나 역할을 하는 도체가 전하를 모아, 연결된 게이트 산화막을 손상시키는 현상을 무엇이라고 부르는가?
  5. 수산화칼륨(KOH) 수용액에 의한 실리콘 습식 식각의 특징으로 올바른 것은?

이 분야의 비교