CMP與清洗

不將研磨粒子放入研磨液,而是固定在研磨墊內的CMP方式為下列何者?

  1. A旋轉塗佈
  2. B固定磨粒CMP(fixed-abrasive CMP)
  3. C電鍍
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正確答案:B. 固定磨粒CMP(fixed-abrasive CMP)

固定磨粒CMP使用將氧化鈰等研磨粒子固定在樹脂中的研磨墊,僅供應不含粒子的藥液進行研磨。只有凸出部分接觸磨粒而被研磨,凹處幾乎不被研磨,因此平坦化能力高,也具有表面變平坦後研磨自然變慢的自停性。由於還能減少研磨液的使用量與廢液,已被用於STI的平坦化等,但研磨墊的缺陷管理是其課題。

  • A. 旋轉塗佈是以旋轉將液體鋪開而形成膜的方法。
  • B. 正確。是將研磨粒子固定在研磨墊上的方式。
  • C. 電鍍是以電使金屬析出的沉積方法。
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