CMP與清洗
SPM(硫酸與雙氧水)清洗之後若沖洗不充分,下列何者是容易發生而廣為人知的問題?
- A表面殘留硫酸根離子等,日後成為霧狀(haze)與缺陷的原因
- B晶圓變厚
- C表面變成n型
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正確答案:A. 表面殘留硫酸根離子等,日後成為霧狀(haze)與缺陷的原因
硫酸黏性高且容易吸附在表面,若沖洗不充分會殘留硫酸根離子,與空氣中的氨等反應而析出硫酸銨的微結晶,產生霧狀(haze)與缺陷。若發生在曝光用的光罩上,也曾成為降低透光率的成長性缺陷(haze)的原因。因此要以溫水充分沖洗,或改用不含硫酸的清洗方式。
- A. 正確。殘留的硫酸根離子會成為霧狀與缺陷的原因。
- B. 晶圓不會變厚。
- C. 導電型不會改變。