使CMP研磨頭按同心圓狀的多個區域分別改變壓在晶圓上的壓力，其主要目的為下列何者？

正確答案：A. 調整晶圓中心與外圍等處的研磨量，使面內膜厚均勻

由於研磨速率與壓力大致成正比（普雷斯頓方程式），將研磨頭內的橡膠膜分為同心圓狀的多個區（5～10個左右），並分別改變各區的氣壓，就能調整晶圓各處的研磨量。藉由量測前一步驟的膜厚分布並做前饋，或在研磨中量測膜厚並即時調整，使研磨後的膜厚一致在數nm以內。

• A. 正確。調整各處的研磨量使其均勻。
• B. 目的不是節省研磨液。
• C. 不是為了轉速的機構。