プロセス材料(ガス・薬液)

装置に供給する直前のガスから、微量の不純物やパーティクルを取り除くために配管に設けられる機器はどれか。

  1. A真空ポンプ
  2. Bガス精製器(ピュリファイア)やガスフィルター
  3. Cヒーター
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正解:B. ガス精製器(ピュリファイア)やガスフィルター

ガスはボンベや配管の中でも水分や酸素などの微量不純物、パーティクルを含むことがあります。装置の直前にガス精製器やフィルターを設けて、これらを取り除き、プロセスに使うガスの純度を保っています。

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