ウエハ上の異物やパターン欠陥を検出する欠陥検査装置で使われる代表的な原理はどれか。

正解：A. 光を当てたときの散乱光の検出や、隣り合うダイの画像の比較

異物があると当てた光が散乱するため、散乱光を検出して異物を見つけます。パターン欠陥は、同じパターンをもつ隣のダイの画像と比較して、違いがある場所を欠陥として検出します。検出した欠陥はSEMで詳しく観察して分類(レビュー)します。