リソグラフィ

現在の露光装置(スキャナー)で一般的な、マスクのパターンをウエハ上に投影するときの縮小倍率はどれか。

  1. A等倍(1/1)
  2. B1/4
  3. C1/100
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正解：B. 1/4

現在の露光装置では、マスクのパターンを1/4に縮小してウエハに投影するのが一般的です。マスク上のパターンはウエハ上の4倍の大きさでよいため、マスクの製作が容易になり、マスク上の小さな欠陥の影響も小さくなります。

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