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현재의 노광 장비(스캐너)에서 일반적인, 마스크 패턴을 웨이퍼에 투영할 때의 축소 배율은?

  1. A등배(1/1)
  2. B1/4
  3. C1/100
정답과 해설 보기

정답: B. 1/4

현재의 노광 장비에서는 마스크 패턴을 1/4로 축소하여 웨이퍼에 투영하는 것이 일반적입니다. 마스크 위의 패턴은 웨이퍼 위보다 4배 크면 되므로 마스크를 제작하기 쉽고, 마스크 위의 작은 결함이나 치수 오차도 1/4로 줄어 영향이 작아집니다. 마스크는 6인치 각(152 mm)의 석영판이 표준이며, 그 안에 26×33 mm 샷의 4배 크기가 들어갑니다. High-NA EUV에서는 방향에 따라 1/4과 1/8의 축소를 조합합니다.

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