成膜(CVD・PVD)

半導体の製造で扱う薄膜の厚さの目安として最も適切なものはどれか。

  1. A数nm〜数µm程度
  2. B数mm〜数cm程度
  3. C数m程度
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正解：A. 数nm〜数µm程度

LSIの製造で成膜する膜は、ゲート絶縁膜のような数nmのものから、配線や絶縁膜のような数百nm〜数µm程度のものまであります。1 nmは10⁻⁹ m、1 µmは10⁻⁶ mです。

  • A. 正しい。数nm〜数µm程度の薄い膜です。
  • B. 数mm以上はウエハより厚く、薄膜ではありません。
  • C. 数mは製造装置の大きさの桁です。
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