Wat is Anisotroop etsen?

Eigenschap dat het etsen alleen in een bepaalde richting (meestal verticaal) verloopt. Noodzakelijk voor het bewerken van fijne patronen.

Japanse benaming: 異方性エッチング

“Anisotroop etsen” komt voor in 4 oefenvragen uit 2 onderwerpen, bijv. Etsen, MEMS en sensoren.

Doorsnede van isotroop en anisotroop etsen Isotroop etsen Etst ook zijwaarts en onderetst het masker Anisotroop etsen Etst alleen verticaal, het patroon wordt nauwkeurig overgenomen Masker Te structureren laag Ondergrond
Doorsnede van isotroop en anisotroop etsen · Bekijken in het figurenoverzicht

Vakgebied: Etsen

Nu oefenen: vragen over Anisotroop etsen

Welke uitspraak over anisotroop etsen is juist?

  1. AHet etsen verloopt vooral in verticale richting en nauwelijks in zijwaartse richting
  2. BHet etsen verloopt in alle richtingen met dezelfde snelheid
  3. CAlleen het maskermateriaal wordt selectief weggeëtst
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Het etsen verloopt vooral in verticale richting en nauwelijks in zijwaartse richting

Bij anisotroop etsen verloopt het etsen in verticale richting bij voorkeur, door de inslag van ionen die door een elektrisch veld loodrecht worden versneld en door een beschermende film op de zijwanden, en vindt nauwelijks zijwaarts etsen onder het masker plaats. Het maskerpatroon kan daardoor nauwkeurig worden overgebracht zonder dat de afmetingen veranderen, en fijne, verticale structuren met bijvoorbeeld een breedte van enkele tientallen nm en een diepte van enkele µm kunnen worden gemaakt. Etsen met dezelfde snelheid in alle richtingen is isotroop etsen.

“Anisotroop etsen” in de toelichting

Vragen met “Anisotroop etsen” (4)

  1. Welke uitspraak over anisotroop etsen is juist?
  2. Welke MEMS-bewerkingsmethode maakt bewegende structuren door op een substraat gestapelde dunne films te bewerken?
  3. Welke uitspraak over de kenmerken van etsapparatuur van het type inductief gekoppeld plasma (ICP) is juist?
  4. Hoe heet het verschijnsel dat in bijvoorbeeld capacitief gekoppelde plasmaapparatuur de elektrode aan de waferzijde vanzelf een negatieve gelijkspanningspotentiaal krijgt en ionen naar de wafer versnelt?

Vergelijkingen met deze term

Verwante termen

Plasma Isotroop etsen MEMS Boschproces (Deep RIE) ICP (inductief gekoppeld plasma) Via Self-bias ALE (atomic layer etching) Antenne-effect ARDE (aspect-ratio-afhankelijk etsen)

Naar de woordenlijst