Etsen

Hoe heet het verschijnsel dat in bijvoorbeeld capacitief gekoppelde plasmaapparatuur de elektrode aan de waferzijde vanzelf een negatieve gelijkspanningspotentiaal krijgt en ionen naar de wafer versnelt?

  1. AHall-effect
  2. BSeebeck-effect
  3. CSelf-bias (zelfbias)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Self-bias (zelfbias)

Bij een elektrode waarop hoogfrequent vermogen wordt gezet, stromen meer van de lichte, beweeglijke elektronen binnen dan ionen, zodat een elektrode die via een condensator is aangesloten gemiddeld een negatieve gelijkspanningspotentiaal krijgt (self-bias, enkele tientallen tot enkele honderden V). Door dit potentiaalverschil worden positieve ionen uit het plasma vrijwel loodrecht naar de wafer versneld, wat wordt gebruikt voor anisotroop etsen. Als het hoogfrequente vermogen wordt veranderd, verandert de self-bias en kan de ionenenergie worden bijgesteld.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Etsen

  1. Hoe heet de maskermethode waarbij voor het diep bewerken van fijne patronen van onder naar boven een organische film (koolstoffilm), een siliciumhoudende tussenfilm en resist als drie lagen worden gestapeld?
  2. Welk gas kan silicium zonder plasma isotroop etsen, bijvoorbeeld bij het verwijderen van offerlagen in MEMS?
  3. Welke methode maakt het door belichting gevormde resistpatroon met plasma stapsgewijs dunner om lijnen te maken die smaller zijn dan de belichtingslimiet?
  4. Welke maatregel wordt bij het etsen van een gate-elektrode gewoonlijk genomen om de dunne gate-isolator eronder te behouden?
  5. Hoe groot is bij benadering het zijwaarts weggeëtste bedrag (undercut) vanaf de rand van het masker wanneer een film van 1 µm dik met volledig isotroop nat etsen precies tot de ondergrond wordt weggeëtst?

Vergelijkingen bij dit onderwerp