Oxidatie en diffusie
Welke n-type onzuiverheid diffundeert bij warmtebehandeling in silicium relatief langzaam en maakt het gemakkelijk ondiepe overgangen?
- ABoor (B)
- BFosfor (P)
- CArseen (As)
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: C. Arseen (As)
Van de n-type onzuiverheden heeft arseen grotere atomen dan fosfor en een kleinere diffusiecoëfficiënt, en met een massa van 75 meer dan twee keer die van fosfor (31) dringt het ook bij ionenimplantatie ondiep binnen. Omdat de oplosbaarheid hoog is en hoge concentraties mogelijk zijn, wordt het gebruikt voor source/drain en extensies van nMOS, waar ondiepe, steile overgangen met lage weerstand nodig zijn. Fosfor diffundeert snel en wordt gebruikt voor diepe wells en tegenwoordig als epitaxiaal SiP. Boor is een p-type onzuiverheid.