Nederlands
Menu

Oxidatie en diffusie

Welke uitleg over pyrogene oxidatie (waterstofverbrandingsoxidatie) is juist?

  1. AEen methode van natte oxidatie, waarbij met zeer zuivere waterdamp uit verbranding van waterstof en zuurstof wordt geoxideerd
  2. BEen methode van droge oxidatie, waarbij alleen met droge zuurstof wordt geoxideerd
  3. CEen methode om een oxidefilm met CVD af te zetten
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Een methode van natte oxidatie, waarbij met zeer zuivere waterdamp uit verbranding van waterstof en zuurstof wordt geoxideerd

Bij pyrogene oxidatie worden aan de ingang van de oven (toorts) waterstof en zuurstof verbrand tot waterdamp, waarmee het silicium wordt geoxideerd. Vergeleken met het koken van zuiver water en toevoeren van de damp is er minder verontreiniging en kan de hoeveelheid waterdamp via de gasstroom nauwkeurig worden geregeld. Omdat overgebleven waterstof explosiegevaar geeft, is het veilig ontworpen met iets meer zuurstofstroom. Het is veel gebruikt voor dikke veldoxiden en maskeroxiden.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Oxidatie en diffusie

  1. Welke richtwaarde voor de doorslagveldsterkte van goede thermische oxide (SiO2) is juist?
  2. Welke methode laat waterstof en zuurstof dicht bij het waferoppervlak reageren om in korte tijd een goede dunne oxidefilm te maken?
  3. Hoe heet de behandeling waarbij met plasma gegenereerde stikstof in het oppervlak van een dunne gate-oxidefilm wordt ingebracht?
  4. Welke algemene relatie tussen de etssnelheden van thermische oxide en met CVD afgezette oxide is juist bij etsen in dezelfde verdunde fluorwaterstofzuuroplossing?
  5. Welke defecten ontstaan bij thermische oxidatie doordat een overmaat aan interstitieel silicium die door de oxidatie is ontstaan in het silicium wordt geïnjecteerd en daar groeit?