Metrologie en analyse

Welke technologie wordt onderzocht en ingevoerd om de vorm van diepe gaten enz. driedimensionaal te meten zonder de doorsnede te vernietigen?

  1. AVisuele waarneming met een optische microscoop
  2. BMaatmeting met röntgenverstrooiing (CD-SAXS) enz.
  3. CMeting van het gewicht van de wafer
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Maatmeting met röntgenverstrooiing (CD-SAXS) enz.

Bij structuren zoals de geheugengaten van 3D NAND, met een diepte van enkele µm en een diameter van ongeveer 100 nm, is de vorm in het binnenste met optische metrologie of SEM moeilijk te zien en gaat waarneming van de doorsnede gepaard met vernietiging. Omdat röntgenstraling gemakkelijk door materialen dringt, worden methoden zoals CD-SAXS onderzocht en ingevoerd, die de vorm van periodieke structuren bepalen uit het verstrooiingspatroon van door de wafer heen getransmitteerde röntgenstraling. Knelpunten zijn de zwakke intensiteit van de röntgenbron en de lange meettijd.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Welke methode wordt gebruikt om de concentratie interstitieel zuurstof in silicium te meten?
  2. Welke methode meet contactloos de levensduur van ladingdragers in een wafer en beoordeelt zo onder meer metaalverontreiniging?
  3. Welke functie fotografeert bij inspectie gevonden defecten met SEM en classificeert automatisch het defecttype uit het beeld?
  4. Wat is het gangbare verschil tussen 'metrologie' en 'inspectie' in een halfgeleiderproductielijn?
  5. Wat is het belangrijkste doel van meten en inspecteren halverwege het proces in een productielijn?

Vergelijkingen bij dit onderwerp