Metrologie en analyse

Wat is het belangrijkste gebruik van een apparaat met gefocusseerde ionenbundel (FIB)?

  1. ABewerking van kleine gebieden, vervaardiging van doorsnedemonsters en schakelingsreparatie
  2. BMeting van de laagdikte over de gehele wafer
  3. CReiniging van wafers
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Bewerking van kleine gebieden, vervaardiging van doorsnedemonsters en schakelingsreparatie

Een FIB is een apparaat dat ionen van bijvoorbeeld gallium tot een fijne bundel focusseert en op het monster richt, zodat de gewenste positie met nanometerprecisie kan worden weggefreesd, of in combinatie met een brongas films van platina of wolfraam kunnen worden afgezet. Het wordt gebruikt voor het maken van dunne plakken voor TEM, het bekijken van doorsneden van defecte plekken en schakelingsreparatie waarbij bedrading van prototypechips wordt doorgesneden en opnieuw verbonden. Bij een apparaat dat met een SEM is geïntegreerd kan tijdens het frezen worden waargenomen. Meting van de laagdikte over de hele wafer of reiniging doet het niet.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Metrologie en analyse

  1. Welke analysemethode onderzoekt de elementen en chemische bindingstoestand aan het oppervlak uit de energie van fotoelektronen die bij röntgenbestraling vrijkomen?
  2. Welke analysemethode detecteert het zwakke licht dat een defecte plek tijdens bedrijf uitzendt om de foutplek van een LSI te lokaliseren?
  3. Hoe heet het verschijnsel waarbij bij het meten met een CD-SEM van ArF-resistpatronen het patroon door de elektronenbestraling krimpt?
  4. Wat wordt op de wafer aangebracht om de overlay-afwijking te meten?
  5. Welke methode bepaalt de dikte en dichtheid van een dunne film uit de oscillaties in de reflectiviteit bij zeer ondiep invallende röntgenstraling?

Vergelijkingen bij dit onderwerp