Messtechnik und Analytik

Was ist die Hauptanwendung von Anlagen mit fokussiertem Ionenstrahl (FIB)?

  1. ABearbeitung kleinster Bereiche, Herstellung von Querschnittsproben, Schaltungsänderungen
  2. BMessung der Schichtdicke über den gesamten Wafer
  3. CReinigung von Wafern
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Antwort: A. Bearbeitung kleinster Bereiche, Herstellung von Querschnittsproben, Schaltungsänderungen

FIB ist eine Anlage, die Ionen etwa aus Gallium zu einem feinen Strahl bündelt, an Zielstellen im Nanometerbereich abträgt oder in Verbindung mit Prozessgasen Platin- oder Wolframschichten abscheidet. Sie dient zur Herstellung dünner Lamellen für TEM, zur Querschnittsbeobachtung von Fehlerstellen und zu Schaltungsänderungen an Prototypchips, bei denen Leitungen getrennt und neu verbunden werden. Bei in ein SEM integrierten Anlagen kann man beim Abtragen beobachten. Ganzflächige Schichtdickenmessung oder Reinigung erfolgen damit nicht.

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