Nederlands
Menu

Lithografie

Welke omschrijving van fotoresist is juist?

  1. AEen lijm om de wafer vast te zetten
  2. BEen metaal dat voor bedrading wordt gebruikt
  3. CEen lichtgevoelig materiaal waarvan de eigenschappen veranderen bij belichting, waardoor het beter of slechter oplosbaar wordt in de ontwikkelaar
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Een lichtgevoelig materiaal waarvan de eigenschappen veranderen bij belichting, waardoor het beter of slechter oplosbaar wordt in de ontwikkelaar

Fotoresist is een lichtgevoelige hars waarvan de chemische eigenschappen door licht veranderen en die in een dikte van enkele tientallen nm tot enkele µm wordt aangebracht. Bij positieve resist lossen de belichte delen op in de ontwikkelaar en bij negatieve resist blijven de belichte delen onopgelost over. Het dient niet alleen om patronen over te brengen maar ook als masker dat de ondergrond beschermt tegen latere etsprocessen en ionenimplantatie; daarom is materiaalontwerp dat resolutie, gevoeligheid en etsbestendigheid combineert belangrijk, een gebied waarin Japanse bedrijven een hoog marktaandeel hebben.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welk bedrijf levert EUV-belichtingsapparatuur praktisch als enige?
  2. Welke golflengte heeft het licht dat bij KrF-excimerlaserbelichting wordt gebruikt?
  3. Wat is het belangrijkste doel van het behandelen van het waferoppervlak met HMDS en dergelijke vóór het aanbrengen van resist?
  4. Wat is de juiste betekenis van de „half pitch”, die als maat voor schaalverkleining wordt gebruikt?
  5. Hoe heet de markering die op de wafer wordt aangebracht om bij belichting het volgende patroon nauwkeurig over het in een voorgaande stap gemaakte patroon te leggen?

Vergelijkingen bij dit onderwerp