Lithografie

Welche Aussage zum Fotoresist ist richtig?

  1. AEin Klebstoff zur Fixierung des Wafers
  2. BEin Metall für die Verdrahtung
  3. CEin lichtempfindliches Material, dessen Eigenschaften sich bei Lichteinwirkung ändern, sodass es in Entwicklerlösung leichter oder schwerer löslich wird
Antwort und Erläuterung anzeigen

Antwort: C. Ein lichtempfindliches Material, dessen Eigenschaften sich bei Lichteinwirkung ändern, sodass es in Entwicklerlösung leichter oder schwerer löslich wird

Fotoresist ist ein lichtempfindliches Harz, dessen chemische Eigenschaften sich durch Licht ändern und das mit einer Dicke von einigen zehn nm bis einigen µm aufgetragen wird. Beim Positivtyp lösen sich die belichteten Bereiche im Entwickler, beim Negativtyp bleiben die belichteten Bereiche ungelöst stehen. Er überträgt nicht nur das Muster, sondern schützt als Maske auch die Unterlage beim anschließenden Ätzen oder bei der Ionenimplantation; daher ist ein Materialdesign wichtig, das Auflösung, Empfindlichkeit und Ätzbeständigkeit vereint, und japanische Unternehmen haben in diesem Bereich hohe Marktanteile.

Dieses Thema üben Zur Themenseite

Weitere Fragen zu Lithografie

  1. Welches Unternehmen liefert EUV-Belichtungsanlagen praktisch als einziger Anbieter?
  2. Welche Wellenlänge hat das bei der KrF-Excimerlaser-Belichtung verwendete Licht?
  3. Was ist der Hauptzweck der Behandlung der Waferoberfläche mit HMDS o. Ä. vor dem Auftragen des Resists?
  4. Was bedeutet der als Maß der Miniaturisierung verwendete „Half Pitch“?
  5. Wie heißt die auf dem Wafer vorgesehene Markierung, mit der bei der Belichtung das nächste Muster exakt über das im vorherigen Prozess erzeugte Muster gelegt wird?

Vergleiche zu diesem Thema