Nederlands
Menu

Lithografie

Welke golflengte heeft het licht dat bij KrF-excimerlaserbelichting wordt gebruikt?

  1. AOngeveer 13,5 nm
  2. BOngeveer 193 nm
  3. COngeveer 248 nm
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Ongeveer 248 nm

De golflengte van de KrF-excimerlaser (kryptonfluoride) is ongeveer 248 nm; hij wordt gebruikt vanaf de 0,25 µm-generatie (tweede helft van de jaren 90) en raakte samen met chemisch versterkte resist verbreid. Een excimerlaser is een lichtbron die sterk ultraviolet licht uitzendt uit moleculen (excimeren) in een aangeslagen toestand van een edelgas en een halogeen. Daarna ging de golflengte verder omlaag naar ArF (193 nm) en EUV (13,5 nm), maar KrF wordt nu ook veel gebruikt voor lagen die niet zo nauwkeurig hoeven te zijn en voor een deel van het geheugen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Wat is het belangrijkste doel van het behandelen van het waferoppervlak met HMDS en dergelijke vóór het aanbrengen van resist?
  2. Wat is de juiste betekenis van de „half pitch”, die als maat voor schaalverkleining wordt gebruikt?
  3. Hoe heet de markering die op de wafer wordt aangebracht om bij belichting het volgende patroon nauwkeurig over het in een voorgaande stap gemaakte patroon te leggen?
  4. Wat is de juiste betekenis van „CDU”, dat in lithografie wordt beheerd?
  5. Hoe heet het materiaal waarbij op een kwartsglassubstraat vooraf een lichtblokkerende film en dergelijke is aangebracht en dat wordt gebruikt om fotomaskers te maken?

Vergelijkingen bij dit onderwerp