Lithografie

Wat is de juiste betekenis van de „half pitch”, die als maat voor schaalverkleining wordt gebruikt?

  1. ADe helft van de lengte van een zijde van de chip
  2. BDe helft van de diameter van de wafer
  3. CDe helft van de periode (pitch) van lijn en spatie samen in een herhalend patroon
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. De helft van de periode (pitch) van lijn en spatie samen in een herhalend patroon

Bij een patroon waarin lijnen en spaties zich herhalen, is de lengte van één lijn en één spatie samen de pitch, en de helft daarvan de half pitch. Als lijnbreedte en spatie gelijk zijn, is de half pitch gelijk aan de lijnbreedte. Vroeger was de half pitch van DRAM de naam van de generatie (bijvoorbeeld de 90 nm-generatie). Omdat de resolutiegrens eigenlijk door de pitch wordt bepaald, wordt de schaalverkleining van logica nu vergeleken aan de hand van de kleinste bedradingspitch en gatepitch (CPP).

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Hoe heet de markering die op de wafer wordt aangebracht om bij belichting het volgende patroon nauwkeurig over het in een voorgaande stap gemaakte patroon te leggen?
  2. Wat is de juiste betekenis van „CDU”, dat in lithografie wordt beheerd?
  3. Hoe heet het materiaal waarbij op een kwartsglassubstraat vooraf een lichtblokkerende film en dergelijke is aangebracht en dat wordt gebruikt om fotomaskers te maken?
  4. Welke eigenschap van de methode waarbij zonder masker met een elektronenbundel rechtstreeks een patroon op de resist op de wafer wordt geschreven, is juist?
  5. Welke methode om licht van 13,5 nm te maken in de lichtbron van EUV-belichtingsapparatuur is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp