Nederlands
Menu

Lithografie

Welke methode ontwikkelt positieve chemisch versterkte resist met een organisch oplosmiddel en lost de niet-belichte delen op?

  1. APositive tone development
  2. BEUV-belichting
  3. CNegative tone development (NTD)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Negative tone development (NTD)

Bij negative tone development wordt, hoewel positieve chemisch versterkte resist wordt gebruikt, met een ontwikkelaar van organisch oplosmiddel (zoals butylacetaat) de niet-belichte delen opgelost en blijven de belichte delen over. Bij patronen van smalle sleuven en kleine gaten is het contrast van het beeld beter als het heldere deel van het masker klein kan worden gehouden (donker veld), dus wordt het gebruikt voor onder meer contactgaten en bedradingssleuven bij ArF-immersiebelichting. Dat de resist weinig zwelt, is ook een voordeel.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welk voordeel van resist met metaaloxide, die voor EUV-belichting wordt ontwikkeld, is juist?
  2. Welke patroonvormingstechniek maakt gebruik van de eigenschap van blokcopolymeren om vanzelf regelmatige fijne patronen te vormen?
  3. Welke rol heeft lithografie in de halfgeleiderproductie?
  4. Wat is de oorspronkelijke betekenis van het woord „lithografie (lithography)”?
  5. Welke omschrijving van fotoresist is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp