Lithografie

Welke techniek verhoogt de resolutie van fijne patronen door het masker vanuit een schuine richting te belichten?

  1. AOPC (optical proximity correction)
  2. BAangepaste belichting (off-axis illumination)
  3. CPhase-shift mask
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Aangepaste belichting (off-axis illumination)

Bij fijne periodieke patronen waaieren diffractiestralen onder grote hoeken uit en komen niet in de lens, zodat met alleen nulde-ordelicht geen beeld ontstaat. Als het licht schuin wordt ingestraald, kunnen zowel het nulde-ordelicht als de eerste-orde-diffractie aan één kant in de lens worden opgenomen, zodat in theorie een tot ongeveer de helft fijnere pitch kan worden opgelost en ook de scherptediepte groter wordt. Er zijn onder meer annulaire belichting en dipool- en quadrupoolbelichting, en nu worden belichtingssystemen gebruikt waarin de vorm van de lichtbron per pixel vrij kan worden ingesteld.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Lithografie

  1. Welke methode ontwikkelt positieve chemisch versterkte resist met een organisch oplosmiddel en lost de niet-belichte delen op?
  2. Welk voordeel van resist met metaaloxide, die voor EUV-belichting wordt ontwikkeld, is juist?
  3. Welke patroonvormingstechniek maakt gebruik van de eigenschap van blokcopolymeren om vanzelf regelmatige fijne patronen te vormen?
  4. Welke rol heeft lithografie in de halfgeleiderproductie?
  5. Wat is de oorspronkelijke betekenis van het woord „lithografie (lithography)”?

Vergelijkingen bij dit onderwerp