Lithografie
Welke techniek verhoogt de resolutie van fijne patronen door het masker vanuit een schuine richting te belichten?
- AOPC (optical proximity correction)
- BAangepaste belichting (off-axis illumination)
- CPhase-shift mask
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: B. Aangepaste belichting (off-axis illumination)
Bij fijne periodieke patronen waaieren diffractiestralen onder grote hoeken uit en komen niet in de lens, zodat met alleen nulde-ordelicht geen beeld ontstaat. Als het licht schuin wordt ingestraald, kunnen zowel het nulde-ordelicht als de eerste-orde-diffractie aan één kant in de lens worden opgenomen, zodat in theorie een tot ongeveer de helft fijnere pitch kan worden opgelost en ook de scherptediepte groter wordt. Er zijn onder meer annulaire belichting en dipool- en quadrupoolbelichting, en nu worden belichtingssystemen gebruikt waarin de vorm van de lichtbron per pixel vrij kan worden ingesteld.