Epitaxiale groei

Welke methode laat een kristal op een substraat neerslaan en groeien uit bijvoorbeeld een oplossing in gesmolten metaal?

  1. AVloeistoffase-epitaxie (LPE)
  2. BMoleculaire bundelepitaxie (MBE)
  3. CMetaalorganische chemische dampafzetting (MOCVD)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Vloeistoffase-epitaxie (LPE)

Bij vloeistoffase-epitaxie wordt een oplossing van het te laten groeien materiaal in een gesmolten metaal (voor GaAs gallium) in contact gebracht met het substraat. Door de temperatuur te verlagen slaat het oververzadigde deel als kristal neer. Omdat de groei dicht bij thermisch evenwicht plaatsvindt, is de kristalkwaliteit goed, en door de eenvoudige apparatuur en snelle groei werd LPE vroeger veel gebruikt voor rode en infrarode leds en vroege halfgeleiderlasers. Het beheersen van dunne lagen en abrupte grensvlakken gaat met MOCVD en MBE beter.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Epitaxiale groei

  1. Welke temperatuur ligt het dichtst bij de gangbare groeitemperatuur voor epitaxiale groei van silicium met trichloorsilaan?
  2. Welke spanning ontstaat in een dunne siliciumlaag die epitaxiaal is gegroeid op een gerelaxeerde SiGe-laag met een grotere roosterconstante?
  3. Welke items worden als kwaliteit van een epitaxiale wafer beheerst?
  4. Wat is het belangrijkste doel van het gebruik van een substraat dat enkele graden van de kristalas is gekanteld (met off-angle) bij epitaxiale groei van SiC?
  5. Welk voordeel van epitaxiale groei van silicium bij verlaagde druk is juist?