Epitaxiale groei

Welke items worden als kwaliteit van een epitaxiale wafer beheerst?

  1. AKleur en gewicht van de wafer
  2. BLaagdikte en soortelijke weerstand (onzuiverheidsconcentratie) van de epilaag, en kristaldefecten
  3. CAlleen de prijs van de wafer
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Laagdikte en soortelijke weerstand (onzuiverheidsconcentratie) van de epilaag, en kristaldefecten

Bij epitaxiale wafers is het belangrijk dat laagdikte en soortelijke weerstand (onzuiverheidsconcentratie) van de epilaag aan de specificatie voldoen en uniform zijn over de wafer; beide worden bijvoorbeeld beheerst binnen enkele procenten. Daarnaast worden weinig kristaldefecten zoals stapelfouten en deeltjes, vlakheid en metaalverontreiniging beheerst. De laagdikte wordt niet-destructief gemeten met FTIR en de soortelijke weerstand met bijvoorbeeld C-V-metingen, en defecten worden geteld met oppervlakte-inspectie door laserverstrooiing.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Epitaxiale groei

  1. Wat is het belangrijkste doel van het gebruik van een substraat dat enkele graden van de kristalas is gekanteld (met off-angle) bij epitaxiale groei van SiC?
  2. Welk voordeel van epitaxiale groei van silicium bij verlaagde druk is juist?
  3. Welke methode meet de dikte van een epilaag met lage concentratie op een substraat met hoge concentratie met behulp van interferentie van infrarood licht?
  4. Wat is de belangrijkste uitdaging bij het laten groeien van GaN op een Si-substraat?
  5. Hoe heet het toevoegen van onzuiverheden tijdens de groei door doteergas te laten stromen tijdens epitaxiale groei?