Équipement d'exposition qui déplace de façon synchrone le masque et la plaquette sous une fente lumineuse. C'est le type dominant en production ; il projette généralement les motifs du masque réduits au 1/4.
Nom japonais: スキャナー
« Scanner » apparaît dans 3 questions d'entraînement réparties sur 2 thèmes, dont Lithographie, Métrologie et analyse.
Domaine: Lithographie
Réponse : C. Il expose en déplaçant le masque et le wafer de façon synchronisée par rapport à une fente de lumière
Le scanner n'éclaire qu'une zone en forme de fente de quelques mm de large et expose un champ (26×33 mm) en balayant le masque et le wafer en sens opposés, synchronisés avec un rapport de vitesse de 4:1. Il n'utilise que la partie centrale de la lentille, la moins affectée par les aberrations, peut exposer une zone longue dans la direction de balayage et moyenne les variations au sein du champ. Les platines se déplacent avec des accélérations de plusieurs m/s² tout en conservant une précision nanométrique. L'équipement qui expose en une fois à l'arrêt est le stepper.
Réponse : C. Environ 26 mm × 33 mm
Un scanner typique expose en un champ une zone d'environ 26 mm × 33 mm (environ 858 mm²) sur le wafer, et répète l'opération en déplaçant le wafer pour exposer toute la surface. Cette taille constitue la limite indicative de la taille maximale d'une puce (limite du réticule), et les grands GPU l'utilisent presque entièrement. Au-delà, on recourt aux chiplets reliant plusieurs puces ou à des connexions sur le boîtier. En High-NA EUV, cette zone est réduite de moitié.
Le scanner n'éclaire qu'une zone en forme de fente de quelques mm de large et expose un champ (26×33 mm) en balayant le masque et le wafer en sens opposés, synchronisés avec un rapport de vitesse de 4:1.
Quelle caractéristique d'un équipement de lithographie de t…Un scanner typique expose en un champ une zone d'environ 26 mm × 33 mm (environ 858 mm²) sur le wafer, et répète l'opération en déplaçant le wafer pour exposer toute la surface.
Pour un scanner actuel, quelle est la taille généralement m…Les résultats sont transmis au scanner sous forme de décalages par position sur la plaquette et servent à corriger le lot suivant.
Que place-t-on sur la plaquette pour mesurer l’erreur de su…Photomasque (réticule) GPU Ouverture numérique (NA) Overlay (précision de superposition) Découpe (dicing) Couche antireflet (BARC) EUV High-NA Fenêtre de procédé Laser excimère ArF Lithographie à immersion