Quelle caractéristique d'un équipement de lithographie de type scanner est correcte ?

Réponse : C. Il expose en déplaçant le masque et le wafer de façon synchronisée par rapport à une fente de lumière

Le scanner n'éclaire qu'une zone en forme de fente de quelques mm de large et expose un champ (26×33 mm) en balayant le masque et le wafer en sens opposés, synchronisés avec un rapport de vitesse de 4:1. Il n'utilise que la partie centrale de la lentille, la moins affectée par les aberrations, peut exposer une zone longue dans la direction de balayage et moyenne les variations au sein du champ. Les platines se déplacent avec des accélérations de plusieurs m/s² tout en conservant une précision nanométrique. L'équipement qui expose en une fois à l'arrêt est le stepper.