Gravure qui progresse à la même vitesse verticalement et latéralement. Elle attaque sous le masque (sous-gravure, undercut).
Nom japonais: 等方性エッチング
« Gravure isotrope » apparaît dans 2 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont Gravure.
Domaine: Gravure
Réponse : A. La gravure progresse principalement dans la direction verticale et presque pas latéralement
En gravure anisotrope, le bombardement d'ions accélérés verticalement par le champ électrique et l'action d'une couche protégeant les flancs font progresser préférentiellement la gravure verticale, tandis que la gravure latérale sous le masque est quasi inexistante. Le motif du masque est ainsi transféré fidèlement sans changement de dimension, ce qui permet de réaliser des formes fines et verticales, par exemple de quelques dizaines de nm de large pour plusieurs µm de profondeur. Une gravure progressant à la même vitesse dans toutes les directions est une gravure isotrope.
Réponse : A. Environ 1 µm
En gravure isotrope, la gravure progresse à la même vitesse verticalement et latéralement ; au moment où 1 µm a été gravé et la sous-couche atteinte, environ 1 µm a aussi été gravé latéralement depuis le bord du masque (sous-gravure). La surgravure accroît encore la gravure latérale. Il en résulte une variation de dimension au moins comparable à l'épaisseur du film, ce qui rend la méthode inadaptée aux motifs plus fins que l'épaisseur. À l'inverse, cette propriété est exploitée en MEMS pour évider le dessous des structures.
Une gravure progressant à la même vitesse dans toutes les directions est une gravure isotrope.
Quelle est la définition de la gravure anisotrope ?En gravure isotrope, la gravure progresse à la même vitesse verticalement et latéralement ; au moment où 1 µm a été gravé et la sous-couche atteinte, environ 1 µm a aussi été gravé latéralement depuis le bord du masque (sous-gravure).
Lorsqu'un film de 1 µm d'épaisseur est gravé par gravure hu…Gravure anisotrope Gravure humide Surgravure MEMS Acide fluorhydrique tamponné (BHF) ALE (gravure de couches atomiques) ARDE (gravure dépendante du rapport d'aspect) Autopolarisation (self-bias) Conditionnement de chambre (seasoning) Décapage plasma (ashing)