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Plaquettes de silicium

Quelle orientation de surface est généralement utilisée pour les wafers de silicium destinés aux LSI CMOS ?

  1. A(111)
  2. B(100)
  3. C(211)
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Réponse : B. (100)

Les LSI CMOS utilisent généralement des wafers (100). La surface (100) présente moins de liaisons pendantes par atome de surface, et sa densité d'états d'interface avec le SiO2 est environ 1/10 de celle de la surface (111), ce qui stabilise la tension de seuil et améliore les caractéristiques des transistors MOS. La mobilité des électrons est également plus élevée sur (100). La surface (111), dont la vitesse d'oxydation est plus élevée, était autrefois utilisée notamment pour les composants bipolaires.

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