Plaquettes de silicium

Quelle valeur est la plus proche de l'épaisseur standard d'un wafer de silicium de 300 mm ?

  1. AEnviron 5 mm
  2. BEnviron 100 µm
  3. CEnviron 775 µm
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : C. Environ 775 µm

L'épaisseur standard d'un wafer de 300 mm est d'environ 775 µm. Plus le diamètre est grand, plus le wafer est épais, afin d'éviter la flèche sous son propre poids et la casse pendant le transport (environ 675 µm pour 150 mm et 725 µm pour 200 mm). Seuls quelques µm en surface sont nécessaires aux composants, mais l'épaisseur assure la résistance requise pour traverser le procédé. Une fois les composants terminés, la face arrière peut être rectifiée jusqu'à quelques dizaines de µm pour amincir le boîtier, améliorer la dissipation thermique ou réaliser des TSV.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Plaquettes de silicium

  1. Dans la méthode CZ, quel est l'objectif principal du contrôle du rapport (V/G) entre la vitesse de tirage et le gradient de température dans le cristal ?
  2. Quelle est la méthode représentative de fabrication du silicium polycristallin de haute pureté ?
  3. Comment appelle-t-on les wafers passés dans le procédé indépendamment des produits pour vérifier l'état des équipements, mesurer les épaisseurs de couches, etc. ?
  4. Quelle est la raison principale de l'exigence d'une grande planéité des wafers de silicium ?
  5. Quel équipement est généralement utilisé pour découper un lingot de silicium en de nombreux wafers à la fois ?

Comparatifs sur ce thème