Oxydation et diffusion
Quelle est la caractéristique de l’oxydation radicalaire utilisant des radicaux oxygène ?
- AElle forme des oxydes de bonne qualité à température relativement basse, avec peu d’écart de vitesse selon l’orientation
- BElle exige toujours une température supérieure à 1200 ℃
- CL’épaisseur d’oxyde varie fortement selon l’orientation cristalline
Afficher la réponse et l'explication
Réponse : A. Elle forme des oxydes de bonne qualité à température relativement basse, avec peu d’écart de vitesse selon l’orientation
Les radicaux oxygène produits par plasma, etc., très réactifs, forment même à une température relativement basse d’environ 400 à 600 ℃ un oxyde de qualité proche de l’oxyde thermique. Par rapport à l’oxydation thermique ordinaire, l’écart de vitesse selon l’orientation et le retard d’oxydation aux coins sont faibles, et les nitrures peuvent aussi être oxydés ; elle sert donc pour l’oxydation de structures tridimensionnelles comme les ailettes des FinFET ou les 3D NAND, et pour les étapes à budget thermique serré.