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Oxydation et diffusion

Quelle réaction chimique se produit lors de l’oxydation thermique sèche du silicium ?

  1. ASi + O2 → SiO2
  2. BSi + N2 → SiN
  3. CSiO2 + H2 → Si + H2O
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Réponse : A. Si + O2 → SiO2

En oxydation sèche, le silicium et l’oxygène réagissent à haute température pour former du dioxyde de silicium (Si + O2 → SiO2). L’oxydation humide utilise la vapeur d’eau selon la réaction Si + 2H2O → SiO2 + 2H2 ; une partie de l’hydrogène produit reste dans le film, d’où une densité un peu plus faible des films humides. Dans les deux cas, l’oxydant diffuse dans le film et réagit à l’interface, et le film croît en consommant du silicium.

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