Oxydation et diffusion
Quel est l’avantage d’une oxydation thermique sous atmosphère oxydante à haute pression ?
- ALa vitesse d’oxydation diminue et l’épaisseur se contrôle précisément
- BL’oxydation est rapide même à basse température, ce qui limite la diffusion thermique des dopants
- CL’oxyde devient conducteur
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Réponse : B. L’oxydation est rapide même à basse température, ce qui limite la diffusion thermique des dopants
Augmenter la pression de l’oxydant accroît proportionnellement la quantité d’oxydant dissous dans l’oxyde, ce qui élève la vitesse d’oxydation (surtout la constante parabolique). Par exemple, à 10 atmosphères, la vitesse est multipliée par environ 10, et l’on obtient la même épaisseur à une température nettement plus basse. On limite ainsi la diffusion thermique des dopants et l’apparition de défauts comme les défauts d’empilement induits par oxydation ; le procédé a servi notamment pour les dispositifs de puissance, qui exigent des oxydes épais.