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Oxydation et diffusion

Quel est un usage typique de l’oxyde thermique du silicium ?

  1. AConducteur d’interconnexion
  2. BIsolant de grille, isolation entre composants et masque délimitant les zones de dopage
  3. CCouche émettrice de lumière
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Réponse : B. Isolant de grille, isolation entre composants et masque délimitant les zones de dopage

Le SiO2 formé par oxydation thermique, très isolant et doté d’une interface de bonne qualité avec le silicium, a servi d’isolant de grille des MOSFET, d’isolation électrique entre composants (LOCOS, liner du STI), de masque d’implantation ionique ou de diffusion et de protection de surface pendant l’implantation. Dans les grilles avancées, il a été remplacé par des films high-k, mais une couche d’interface de SiO2 extrêmement mince est toujours utilisée sous ceux-ci.

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