Comment appelle-t-on le phénomène par lequel, au début du recuit après implantation, la diffusion du bore notamment s'accélère temporairement sous l'effet du silicium interstitiel créé par l'implantation ?

Réponse : A. Diffusion accélérée transitoire (TED)

Les atomes de silicium interstitiels en excès créés par l'implantation s'associent au bore et favorisent sa diffusion, qui s'accélère temporairement d'un facteur de plusieurs dizaines à environ mille au début du recuit. Comme l'effet cesse lorsque le silicium interstitiel disparaît, notamment en surface, on parle de diffusion accélérée « transitoire » (TED) ; l'effet est d'autant plus important que le chauffage est long à relativement basse température. Comme elle empêche la formation de jonctions peu profondes, on la limite par un recuit spike, qui monte rapidement en température, ou par la co-implantation de carbone.