離子佈植 在離子佈植後退火的初期，因佈植產生的晶格間矽的影響，使硼等的擴散暫時加快的現象，稱為什麼？ A暫態增強擴散（TED） B吸附（gettering） C偏析 查看答案與解析 正確答案：A. 暫態增強擴散（TED） 離子佈植產生的過量晶格間矽原子會與硼成對而幫助硼的擴散，因此在退火初期，擴散會暫時增強數十倍至一千倍左右。待晶格間矽在表面等處消失後便會趨緩，故稱為「暫態」增強擴散（TED），在較低溫長時間加熱時影響越大。由於會妨礙淺接面，因此以快速升至高溫的尖峰退火或碳共佈植來抑制。