Gravure
Quel est l'un des mécanismes permettant d'obtenir l'anisotropie en gravure sèche ?
- ALa couche de passivation déposée sur les flancs empêche la gravure latérale, tandis qu'au fond le bombardement ionique la retire et la gravure progresse
- BSeuls les flancs se dissolvent rapidement
- CLa solution réagit uniformément dans toutes les directions
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Réponse : A. La couche de passivation déposée sur les flancs empêche la gravure latérale, tandis qu'au fond le bombardement ionique la retire et la gravure progresse
En gravure sèche, des polymères issus des gaz fluorocarbonés ou des produits de réaction se déposent sur les flancs et empêchent la gravure latérale. Au fond, en revanche, les ions frappant verticalement retirent cette couche de passivation et la gravure progresse. Une passivation excessive donne des trous effilés (pente), une passivation insuffisante un élargissement latéral (bowing) ; l'équilibre est obtenu par la composition des gaz et la température pour obtenir des profils verticaux.