Gravure
Quelle est la caractéristique des équipements de gravure à plasma à couplage inductif (ICP) ?
- AIls n'utilisent pas de plasma
- BIls génèrent un plasma haute densité par une bobine et permettent de contrôler séparément la densité du plasma et l'énergie des ions
- CIls utilisent une solution liquide
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Réponse : B. Ils génèrent un plasma haute densité par une bobine et permettent de contrôler séparément la densité du plasma et l'énergie des ions
En ICP, un plasma haute densité de 10¹¹ à 10¹² cm⁻³ est généré par le champ électrique induit par un courant haute fréquence dans une bobine placée au-dessus ou autour de la chambre, et une polarisation est appliquée côté plaquette par une autre alimentation haute fréquence. La densité du plasma (quantité de radicaux et d'ions) et l'énergie des ions frappant la plaquette se règlent facilement de façon indépendante, ce qui permet une gravure rapide et très anisotrope à basse pression (quelques Pa ou moins) ; l'ICP est largement utilisé pour la gravure du silicium et des métaux.