Laagafzetting (CVD, PVD)
Welke richtwaarde voor de dikte van dunne lagen in de halfgeleiderproductie is het meest passend?
- AEnkele nm tot enkele µm
- BEnkele mm tot enkele cm
- CEnkele m
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. Enkele nm tot enkele µm
De lagen die bij de productie van LSI worden afgezet, variëren van enkele nm (tientallen atomen), zoals gate-isolatielagen, tot enkele honderden nm tot enkele µm, zoals bedrading en tussenlaag-diëlektrica. 1 nm is 10⁻⁹ m en 1 µm is 10⁻⁶ m; vergeleken met de dikte van een haar (circa 80 µm) zijn het ordes dunner. De dunste lagen zijn enkele atoomlagen dik en vragen bij ALD en dergelijke een nauwkeurigheid van circa ±0,1 nm.