Schichtabscheidung (CVD, PVD)
Welcher Wert gibt die Dicke der in der Halbleiterfertigung verwendeten Dünnschichten am besten an?
- Aetwa einige nm bis einige µm
- Betwa einige mm bis einige cm
- Cetwa einige m
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Antwort: A. etwa einige nm bis einige µm
Bei der LSI-Fertigung reichen die abgeschiedenen Schichten von einigen nm (einigen zehn Atomen) wie bei Gate-Isolatoren bis zu einigen hundert nm bis einigen µm wie bei Leitbahnen und Zwischenisolatoren. 1 nm sind 10⁻⁹ m, 1 µm sind 10⁻⁶ m; verglichen mit der Dicke eines Haares (etwa 80 µm) sind die Schichten um Größenordnungen dünner. Die dünnsten Schichten bestehen aus wenigen Atomlagen und erfordern z. B. bei ALD eine Genauigkeit von etwa ±0,1 nm.