Was ist Schleuderbeschichtung (Spin Coating)?

Eine Flüssigkeit wird in der Mitte des Wafers aufgetragen und der Wafer schnell gedreht, sodass die Zentrifugalkraft einen dünnen, gleichmäßigen Film verteilt. Sie dient für Photoresist und Spin-on-Dielektrika.

Japanische Bezeichnung: スピンコート

Fachgebiet: Abscheidung (CVD und PVD)

Verwandte Begriffe

ALD (Atomlagenabscheidung) CVD (chemische Gasphasenabscheidung) Elektrostatischer Chuck Flächenselektive Abscheidung (Area-Selective Deposition) Galvanische Abscheidung (Electroplating) HDP-CVD (Hochdichteplasma-CVD) Kantenbedeckung (Step Coverage) LPCVD (Niederdruck-CVD) Magnetron-Sputtern PECVD (plasmaunterstützte CVD)

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