Was ist Spike-Anneal?

Temperung, bei der der Wafer schnell auf hohe Temperatur gebracht und praktisch ohne Haltezeit wieder abgekühlt wird. Sie aktiviert Dotierstoffe bei begrenzter Diffusion, für flache Übergänge.

Japanische Bezeichnung: スパイクアニール

Fachgebiet: Ionenimplantation

Verwandte Begriffe

Abschattung (Shadowing) Ausheilen (Annealing) Channeling (Kanaleffekt) Faraday-Becher (Faraday Cup) Festkörperlöslichkeit Halo-Implantation (Pocket-Implantation) Implantationsdosis Ionenimplantation Laser-Anneal Plasmadotierung (Plasma Doping)

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