Was ist CMP (chemisch-mechanisches Polieren)?

Chemical Mechanical Polishing. Planarisiert die Waferoberfläche durch Kombination der chemischen Wirkung einer Slurry mit mechanischem Polieren durch ein Pad.

Japanische Bezeichnung: CMP

Fachgebiet: CMP und Reinigung

Verwandte Begriffe

Ceroxid (Ceria) Dishing (Muldenbildung) Einzelwaferreinigung Erosion Megasonic-Reinigung Natives Oxid Pad-Konditionierung Prestonsche Gleichung RCA-Reinigung SC-1 (APM)

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