Was ist Natives Oxid?

Dünnes Oxid von etwa 1 nm Dicke, das sich bildet, wenn Silizium Luft oder Wasser ausgesetzt ist. Da es den Kontaktwiderstand erhöht und epitaktisches Wachstum stört, wird es unmittelbar vor solchen Schritten entfernt.

Japanische Bezeichnung: 自然酸化膜