化学増幅型レジスト란?
かがくぞうふくがたれじすと
露光で発生した酸が、露光後ベーク(PEB)で触媒として連鎖的に反応を進めるレジスト。少ない露光量で感光でき、KrF以降の露光で広く使われる。塩基性の汚染に弱い。
일본어 명칭: 化学増幅型レジスト
분야: 포토리소그래피
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관련 용어
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) ArFエキシマレーザー EUV露光 High-NA EUV OPC(光学近接効果補正) オーバーレイ(重ね合わせ精度)